作为国际知名的国产MOCVD设备制造商，一直都是全国MOCVD学术会议的参与合作伙伴。4月17日，中微公司举行2019年度业绩说明会。中微公司2019年营收19.47亿元，同比增长18.77%；归属于上市公司股东的净利润为1.89亿元，同比增长107.51%。

　　中微公司董事长、总经理尹志尧在2019年度业绩说明会中透露：“今后，公司计划继续通过有机生长，不断开发新的产品，不断提高市场占有率；同时，公司将在适当时机，通过投资、并购等外延式生长途径，扩大产品和市场覆盖，力争在未来十年内，发展成为在规模上和市场占有率上国际一流的半导体设备公司。”

　　中微公司主要从事高端半导体设备的研发、生产和销售，主要为集成电路、LED芯片、MEMS等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、MOCVD设备及其他设备。其中，MOCVD设备主要应用于蓝绿光及紫外LED外延片和功率器件的生产，目前已在行业领先客户的生产线上大规模投入量产。

　　报告期内，公司主营业务收入来源于半导体设备产品的销售，其他收入来源于设备相关配件销售 及设备维护服务等。2019年度，公司研究开发支出共计42,457.24万元，政府补助抵减研发费用1,549.47万元， 研究开发支出净额为40,907.77万元。其中：计入研发费用23,372.97万元，开发支出资本化17,534.80万元。

　　中微公司董事长、总经理尹志尧表示，公司2019年度毛利率34.93%，较上年度减少0.57个百分点，但情况基本稳定。等离子刻蚀设备和MOCVD设备服务于不同的市场，中微刻蚀设备的毛利率已达到国际同行的水平。在今后的几年中，中微会不断地开发新一代的刻蚀设备和MOCVD设备，服务于更高端市场，期望得到更高的毛利率。

　　占据领先地位  不断开发新一代设备

　　中微公司董事长尹志尧在年报开篇的致辞中介绍，2019年中微公司继续瞄准世界科技前沿，在刻蚀设备和MOCVD设备的研发、技术的新应用、市场布局的调整和拓展、新业务的探索和展开等许多方面取得了长足的进展。

　　据了解，中微公司的等离子体刻蚀设备已应用在国内外知名厂商55纳米到5纳米的众多芯片生产线上。特别是中微的电容性CCP等离子体刻蚀设备，已在国际领先的晶圆生产线核准5纳米的若干关键步骤加工。

　　目前，公司正在开发新一代的电容性等离子体刻蚀设备，可加工先进逻辑器件，包括大马士革在内的各种刻蚀应用，能够涵盖5纳米及更先进工艺刻蚀需求和更多关键应用。公司的电容性等离子体介质刻蚀设备已应用于64层闪存器件的量产，正在开发新一代涵盖128层和更先进关键刻蚀应用的刻蚀设备和工艺。

　　此外，中微公司的电感性ICP等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，正在进行下一代产品的研发，以满足7纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的刻蚀需求。

　　据悉，中微公司的MOCVD设备已在全球氮化镓基LED设备市场中占据领先地位。公司研发的用于制造深紫外光LED的MOCVD设备已在行业领先客户端验证成功。用于Mini LED生产的MOCVD设备的研发工作正在有序进行中。制造Micro LED、功率器件等需要的MOCVD设备也在开发中。

　　同时，公司兼顾外延性发展，子公司中微汇链、中微惠创在新业务拓展领域取得了长足的进展。此外，公司也参股投资了一些具有协同效应潜力的项目。

　　业务未受国际贸易摩擦实质性影响

　　近年来国际贸易和科技方面的摩擦不断，对国内部分企业已经有相当的影响。但中微从成立开始就严格遵守中国和各相关国家地区的进出口和知识产权等法律法规，一直保持与相关国家和地区政府部门的及时沟通。

　　到目前为止，中微的业务尚未受到实质性的影响。中微正密切关注国际形势的变化，对潜在的不利因素和负面影响持续进行评估，并制定相应的防范预案。

　　未来十年内争创国际一流半导体设备公司

　　同时，中微公司将继续通过自主研发进一步提高公司产品的竞争力，为客户提供有竞争力的产品和优良的服务，并通过投资、并购等外延式成长途径扩大在集成电路领域及泛半导体领域的产品和市场覆盖，继续探索核心技术在国计民生中创新性的应用，不断推动企业稳定，健康和高速的发展。

　　中微公司董事长、总经理尹志尧表示：“今后，公司计划继续通过有机生长，不断开发新的产品，不断提高市场占有率；同时，公司将在适当时机，通过投资、并购等外延式生长途径，扩大产品和市场覆盖，力争在未来十年内，发展成为在规模上和市场占有率上国际一流的半导体设备公司。”

　　同时，尹志尧还透露，中微公司已与临港新片区管委会已签署了合作意向协议书，拟使用自有或自筹资金，在临港新片区建设高端半导体装备研发与生产基地。

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